不好好学习,总有一天是要还债的。
这就是我2年前胡乱交一通作业,而现在需要从头回顾。
我之前一直搞不懂,只是照葫芦画瓢 0 0
现在来还债
首先看下整体MOS管 子的物理模型
因此,NMOS直接画在黑色的背景上,但是PMOS必须画一个nwell (n型阱)
2.有源区(N+、P+和沟道)
N+图层—Active+nselect(选择性参杂)
P+图层—Active图层+pselect(选择性参杂)
其中n/p select包围有源区
3.栅氧化层 在layout中不显示
4.多晶层 poly
5.介质层
金属层通过contact和S,D,G连接才能形成S.D.G极
介质层是图中白的部分,layout中没有单独的图层。但是版图中定义了Contact图层
6.金属层
与电源、地相接的线
7.沟道
沟道长L=Poly宽度(红色多晶)
沟道宽W=有源区(蓝色部分)的宽度
注意contact和poly之间的距离
contact和active之间的距离
注意边缘与边缘之间的距离
别忘记PMOS有nwell包围!!!
PMOS衬底接触孔(ND-C,NPLUSE.DIFFUSION.CONTACT)一般放在PMOS上方(接电源),为了后期布线时候可以直接通过电源线将衬底接触连接。
(PMOS管的衬底接触在nwell之内!!!!!!!!!!!,注意边缘到边缘的距离。)
NMOS衬底接触孔(PD-C,PPLUSE.DIFFUSION.CONTACT)一般放在NMOS下方(接地)
衬底接触孔一般靠近晶体管的源端(这样走线较短,不会产生多余的电阻)