本案例演示利用Fluent模拟计算化学气相沉积(CVD)过程。案例数据来自Fluent Tutorials文档。
工程上常采用化学气相沉积方法(chemical vapor deposition,CVD)生产半导体砷化镓GaAs,其反应装置示意图如下图所示。
工艺气体三甲基镓(Ga(CH3)3)和砷化氢(AsH3)通过顶部的进气道以温度293k进入反应器。气体在旋转的热圆盘上流动,从而在圆盘上沉积薄薄的镓和砷层。圆盘旋转产生径向抽运效应,迫使气体以层流的方式流动到生长表面并向外穿过圆盘,最终从反应器中排出。
案例涉及到的化学反应:
入口气体包含三甲基镓(质量分数0.15)、砷化氢(质量分数0.4)以及氢气。入口混合物速度为0.02189 m/s,圆盘旋转速度80 rad/s。反应器顶部壁面(wall-1边界)加热至437 K,侧壁面(wall-2)温度维持在343 K,基座(wall-4)加热至均匀温度1023 K,下壁面(wall-6)温度303 K。
1 启动Fluent并导入网格
计算网格如图所示。
- 鼠标双击模型树节点General,右侧面板点击按钮Scale…弹出网格缩放对话框,如下图所示,设置Mesh Was Created In为cm,点击按钮Scale缩放网格
- 点击Close按钮关闭对话框
2 模型设置
- 右键选择模型树节点Models > Energy,点击弹出菜单项On开启能量方程
- 鼠标双击模型树节点Models > Species弹出设置对话框,如下图所示,激活选项Species Transport,激活选项Volumetirc及Wall Surface,取消选项Heat of Surface Reactions,选中选项Mass Deposition Source,激活选项Diffusion Energy Source、Full Multicomponent Diffusion及Thermal Diffusion
3 定义材料属性及化学反应
1、材料库中添加材料
- 鼠标双击模型树节点Materials > Fluid > air打开的对话框中点击按钮Fluent Database进入材料数据,从Fluent材料数据库中添加如下表所示4种材料,并修改材料属性。
- 创建沉积相组分(Ga_s及As_s)及固相组分(Ga及As),其材料参数如下表所示。
注:这里沉积相固相的材料定义时按流体材料属性定义。
2、定义混合物
- 鼠标双击模型树节点Materials > Mixture > mixture-template,弹出材料定义对话框,修改材料名称为gaas_deposition
- 点击Mixture右侧按钮Edit弹出设置对话框,如下图所示选择各种反应组分
注:确保h2位于组分列表的最下方
3、定义化学反应
本案例需定义两个化学反应:
- 鼠标点击Reaction右侧按钮Edit…进入化学反应定义对话框,设置参数Total Number of Reactions为2,如下图所示定义第1个化学反应
- 点击OK按钮关闭对话框,返回至Create/Edit Materials对话框,点击对话框中Mechanism右侧按钮Edit…弹出如下图所示设置对话框
- 按图中参数进行设置,点击按钮Define…弹出沉积参数对话框
- 关闭反应机理设置对话框,返回至Create/Edit Materials对话框,如下图所示设置混合物材料参数
4 边界设置
1、velocity-inlet边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > velocity-inlet弹出速度入口设置对话框,进入Momentum标签页,设置Velocity Magnitude为0.02189 m/s
- 进入Thermal标签页,设置Temperature为293 K
- 进入Species标签额,如下图所示设置ash3质量分数为0.4,设置game3的质量分数为0.15,设置ch3质量分数为0,点击OK按钮关闭对话框
2、outlet边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > outlet弹出设置对话框,如下图所示,Momentum标签页保持默认设置
- 进入Thermal标签页,设置Temperature为400 K
- 进入Species标签额,如下图所示设置ash3质量分数为0.32,设置game3的质量分数为0.018,设置ch3质量分数为0.06,点击OK按钮关闭对话框
3、wall-1边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > wall-1弹出设置对话框,如下图所示,进入Thermal标签页,设置Temperature为473 K
4、wall 2边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > wall-2弹出设置对话框,如下图所示,进入Thermal标签页,设置Temperature为473 K
5、wall-4边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > wall-4弹出设置对话框,如下图所示,设置该边界选择速度为80 rad/s
- 进入Thermal标签页,设置Temperature为473 K
- 进入Species标签页,如修图所示,激活选项Reaction,点击OK按钮关闭对话框
6、wall- 5边界设置
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > wall-5弹出设置对话框,如下图所示,设置该边界选择速度为80 rad/s
- 进入Thermal标签页,设置Temperature为720 K,点击OK按钮关闭对话框
7、wall 6边界
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions > wall-6弹出设置对话框,进入Thermal标签页,设置Temperature为303 K,点击OK按钮关闭对话框
5 设置操作条件
- 鼠标双击模型树节点Boundary Conditions,点击右侧面板按钮Operating Conditions,弹出设置对话框,如下图所示,设置Operating Pressure为10000 Pa,设置Operating Temperature为303 K
- 其他参数保持默认设置,点击按钮OK关闭对话框
6 计算初始化
- 鼠标双击模型树节点Initialization,右侧面板激活选项Hybrid Initialization,点击按钮Initialize开始初始化计算
7 计算求解
- 鼠标双击模型树节点Run Calculation,右侧面板设置参数Number of Iterations为1000,点击Calculate按钮开始计算。
注:若计算收敛困难,可先关闭化学反应,待计算收敛后再开启化学反应计算。
8 后处理
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