当前位置:服务支持 >  软件文章 >  3/23 Ansys Lumerical 2021 R1新功能亮点,抢先看

3/23 Ansys Lumerical 2021 R1新功能亮点,抢先看

阅读数 5
点赞 0
article_banner

Ansys持续着力于Lumerical光学仿真产品的创新,推出强大的新功能来让仿真更准确、有效率、同时好用。在本次的研讨会中我们将会介绍2021 R1更新的一些新功能,其中包含: 

1.在Lumerical INTERCONNECT中的Traveling Waveguide Laser Model (TWLM)新增激光自热效应的仿真来提升准确度。

2.在自订元件的设计流程中新增制成资料的整合,让客户更能信赖仿真出的设计与制成的结果。

3. 在CML compiler中新增自动化流程来简化建立compact model时所需的资料收集步骤。 

4. 支援参数扫描时所需的平行运算,当使用Ansys Enterprise license时,可用HPC license来进行参数扫描所需的平行运算,但不需要使用额外solver license。 

5. 升级的PDK-driven工作流程中,Lumerical INTERCONNECT以及CML Compiler加入空间相关性之统计分析功能以协助缩短上市时间并减少制成风险。 

6. 全部的Lumerical产品皆已与Ansys license管理工具整合,提供新用户与续约用户一个相容Ansys全产品的license方案。 

7. 我们持续聆听客户的声音,加入了许多新的模拟功能,包含在CHARGE上建立四元合金、在FDTD上提供远场投射计算时的记忆体估算、在INTERCONNECT开启时自动更新CML,还有其他多项功能。


01

主题/时间


Ansys Lumerical 2021 R1新功能介绍
3月23日16:00

02

适用人群


光电元件以及集成光路设计人员。

03

讲师介绍


陈奕豪

Ansys Lumerical应用工程师。 毕业于台湾大学电机系,后于美国密西根大学电机研究所主修光学,研究奈米光学元件取得电机博士学位。他于2019年加入台湾Lumerical,主要负责亚太地区技术支持、协助客户使用Lumerical产品进行研发工作。在加入Lumerical之前,他有多年光学仿真工具之使用经验,并曾于日本IBM研究所、台湾TSMC、荷兰ASML等公司之研发部门任职,从事硅光元件、微影制程、以及极紫外光刻机之开发

04

报名方式


》点击注册《

05

更多专场


Ansys中国推出豪华技术盛宴——Ansys 2021 R1新品发布系列网络研讨会,周周都有多个精彩议题与大家见面,多达30+场线上分享会将持续至5月,目前全系列网络研讨会已开放报名通道,快点加入我们,开启你的2021学习计划吧!

点击查看更多直播

3/23 Ansys Lumerical 2021 R1新功能介绍的图1




免责声明:本文系网络转载或改编,未找到原创作者,版权归原作者所有。如涉及版权,请联系删
相关文章
QR Code
微信扫一扫,欢迎咨询~

联系我们
武汉格发信息技术有限公司
湖北省武汉市经开区科技园西路6号103孵化器
电话:155-2731-8020 座机:027-59821821
邮件:tanzw@gofarlic.com
Copyright © 2023 Gofarsoft Co.,Ltd. 保留所有权利
遇到许可问题?该如何解决!?
评估许可证实际采购量? 
不清楚软件许可证使用数据? 
收到软件厂商律师函!?  
想要少购买点许可证,节省费用? 
收到软件厂商侵权通告!?  
有正版license,但许可证不够用,需要新购? 
联系方式 155-2731-8020
预留信息,一起解决您的问题
* 姓名:
* 手机:

* 公司名称:

姓名不为空

手机不正确

公司不为空