FEKO激励源与求解项：设置细节大揭秘

1.端口与激励

FEKO中的端口形式与激励形式有多种，每一种的使用环境也有所不同，选择不当会导致计算报错或者计算结果不准确。

注意事项：

利用line将微带贴片与地相连接，并设置wire port端口和voltage source激励，其等效于利用同轴进行馈电的形式,剖分时wire的半径应与原同轴线馈针的半径一致，才能获得较为准确驻波比。同时line需要完全被介质包裹，或者完全置于真空中，才可以设置wire port。

edge port可以被用来对微带滤波器或者微带天线侧馈形式下进行馈电，同时需要注意的是：edge port也需要被介质完全包裹，或者完全置于真空中，所以要将馈电端口向介质中延申一段。

在HFSS中，通常利用waveguide port给侧馈形式的天线馈电，在feko中利用同样的方式进行馈电时，端口匹配特性误差较大，故不适合用于此处。

2.  feko中可以设置多个求解进程configuration

feko中的求解项分为两种，一种是standralconfiguration，主要是求解方向图，RCS，传输系数等电磁参数；还有一种是S-parameter configuration，主要求解端口网络/阵列天线等端口之间的S参数。天线方向图farfield与多端口的S参数的求解不能同时放在一个configuration中，需要添加一个configuration，但是不同的congfiguration可以放在一个CFX文件中（只要模型一致）。

3.  configuration之间的差异有几种选择

• frequency per config 每个求解项的频率不同;
• source per config每个求解项的激励设置不同（幅度，相位）;
• load per config（每个求解项的负载不同）;
• power per config（每个求解项的功率不同）

4.     对称面的设置

理想电面和理想磁面的使用可以有效的降低未知量数，结构对称的面的使用则可以简化建模。理想电面和理想磁面的使用依据，主要看电场，电流或磁场和磁流的方向。电场，电流的方向与理想电面垂直，与理想磁面平行；磁场和磁流的方向垂直于理想磁面，与理想电面平行。

免责声明：本文系网络转载或改编，未找到原创作者，版权归原作者所有。如涉及版权，请联系删